半导体工艺气体等级大揭秘

半导体工艺气体等级的划分主要基于气体纯度等指标，具体标准如下：
1、大宗气体：
纯度要求：纯度在 3n 及以上（1n 表示纯度百分比 9 的个数，3n 即纯度达到 99.9% 上述)，

气体中杂质含量较高。
应用领域：常用于一般半导体设备的生产环节，如辅助气体作为一些非关键工艺步骤或提

供一般气体环境。
2、高纯气体：
纯度要求：达到纯度 5n 及以上（即 99.999% 以上)，气体中杂质含量的控制比较严格，需

要将金属元素等杂质净化到较低的浓度水平。
应用领域：适用于大型集成电路的制造，适用于一些对气体纯度要求较高的工艺环节。例

如，在半导体材料的沉积和延伸过程中，高纯度气体可以保证工艺的稳定性和产品质量。
3、电子气体(电子气体)：
纯度要求：一般要求符合要求： 6n 及以上（即 99.9999% 以上)，一些先进的工艺甚至需

要更高的纯度，可以实现。 ppb（10??）甚至 ppt（10?¹²）级别。
应用领域:是半导体制造中的关键工艺气体，广泛应用于光刻、蚀刻、掺杂、气相沉积、扩

散等各种半导体工艺流程的核心工艺环节。例如，氟基气体(例如)在蚀刻过程中 CF?、SF?、

C?F?、NF?等）、氯基气体（Cl?）和溴基气体（Br?、HBr）用于去除硅片表面不必要的材

料。
总之，半导体工艺气体的等级划分对半导体制造的质量和性能非常重要。不同等级的气体

在半导体生产的不同环节起着特定的作用。随着半导体技术的不断发展，对工艺气体纯度

和质量的要求也在不断提高。
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