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二氧化碳市场现心电图
山东地区二氧化碳市场价格能持两周左右价格稳定的情况少之又少，但是市场价格在短时间之内出现暴涨暴跌的情况也较少。然而，据卓创统计数据显示，8月10-31日期间，山东地区二氧化碳市场价格风向标的某企业报价先后经历一波过山车行情，首先该厂报价在8月10-23日期间累计上涨170元/吨，在8月27-29日期间累计下跌150元/吨，最后8月31日该厂报价又止跌反弹30元/吨，其价格调整之频繁，价格调整幅度之剧烈令业者咋舌。这背后原因为何？ 据纽小编得知，8月中旬，因明水大化、联盟、鑫汇新能源更多 +
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四氟化碳在微电子行业的应用
四氟化碳，又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中，需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中，用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉，附有油墨的电路上铜皮得以保留，之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干，等工艺。 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控更多 +
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石油开采时注入的氮气有什么作用？
从多油藏的角度看，油层注氮主要有如下几方面作用： 1．保持油层压力 将油气层的压力保持或高于其露点压力或泡点压力，或保持在目前压力水平上，以使油气层流体能顺利流出。 2．气顶驱替 在油藏最佳部位注入氮气，可保持或提高油藏压力并同时驱替和采出气顶气。 3．阁楼油开采 高压氮气可将构造顶部的阁楼层中被圈闭的原油驱替到生产井中。 4．驱动二氧化碳段塞更多 +
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蚀刻技术中特种气体的作用
硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙烷/氧气、三氟化氮等。但由于其各向同性,选择性较差,因此改进后的蚀刻气体通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)气体。反应后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。铝和金属复合层的蚀刻通常采用氯基气体,如CCl4、Cl2、BCl3等。产物主要包括AlCl3等 蚀刻是采用化学和物理方法,有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的目的是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。刻蚀分为湿法蚀更多 +
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影响标准气体稳定度的四大因素
一、气体组分的相容性。如果配制氮气中一氧化氮/氮气的标准气体， 如果高纯氮中含有氧或充装中带入氧， 那么混合气体就变成了二氧化氮/氮气了、类似情况的问题整理为以下几点： 1、 可燃性气体或自燃气体与氧化性气体： 如果在爆炸下限以上或最小需氧量以上将可燃性气体和氧化性气体充入同一个气瓶中， 会有爆炸的危险。碳氢化合物和氢气作为可燃气体容易被人们重视，而一氧化碳的可燃性却常常被人们忽视， 而只是关注了它的毒性。氧气是助燃气体， 而一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、 F2、 氯气、三氟化氮更多 +
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我国已实现甲烷温室一步转为液态
昨日纽小编从上海科技大学获悉，该校物质科学与技术学院左智伟科研团队成功开发出一种廉价、高效的铈基催化剂和醇催化剂的协同催化体系，解决了利用光能在室温下把甲烷一步转化为液态产品的科学难题，为甲烷转化成高附加值的化工产品提供了崭新的解决方案。 中国科学院院士、上海科技大学副校长丁奎岭这样评价这项研究成果：“由于甲烷分子碳氢键的高度稳定性和弱极性，它的转化极具挑战性，通常需要高温高压等苛刻的反应条件，因此如何在温和条件下实现甲烷分子碳氢键的官能团化，被认为是化学中的&lsqu更多 +
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激光器使用的激光气体和切割辅助气
激光气体中的发生气体时激光发生器上用来产生激光的气体，对气体质量要求高，激光混合气配制精度要求高，高纯二氧化碳纯度达99.999%，高纯氮气的纯度99.999%，高纯氦气的纯度要求99.999%，二氧化碳是产生激光的，氦气是冷却激光器的，氮气是平衡气体，气体中的水分、氧份、有机气体杂质对激光机的镜片损伤特别大，能快速减少镜片的寿命。所以激光机对这些气体的质量要求特别高。 激光切割辅助气体主要是干燥空气、高纯氮气或工业氧气，当切割不锈钢板或是切割铝板时一般使用高纯氮气更多 +
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如何检查气体剩余量？
瓶装气体现有气态和液态两种。氧气、氮气、氩气、氢气、氦气、空气为气态气体，乙炔气为气态溶解在丙酮之中，液氨、二氧化碳、笑气等为液态气体; 检查气态气体是否符合满瓶，常用的检查方法是用压力表测试气瓶的显示压力; 检查液态气体是否符合满瓶，常用的检查方法是用磅称称重量，气瓶钢印所示的“W”符号是指钢瓶的重量; 如乙炔气为4-5Kg/瓶，其称检方法：总重量减去气瓶的重量，以此类推; 乙炔不以减压器(表)所显示的压力为满瓶依据或标准。更多 +
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高纯硅烷和普通硅烷的品质指标对比
高纯硅烷的品质无统一规定，各个生产单位生产的硅烷品质通常有微小差别。下标是5N、6N级高纯硅烷和普通硅烷品质指标。 从表中可以看出，5N级硅烷除氢气、氦气外，杂质气体氧（氩）、一氧化碳+二氧化碳控制在0.4ppmv，其他杂质气体均在0.2ppmv。6N级硅烷均控制在0.1ppm。普通硅则高了一个数量级，氯化物甚至达到了15ppmv，高了两个数量级。更多 +
