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99.999%（5N）高纯四氟化碳
产品分类：四氟化碳更多 +
纯度：99.999%（5N）
包装：钢质无缝气瓶
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式：CF4
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从聚四氟乙烯到高纯四氟化碳
本文介绍了四氟化碳的主要生产工艺，包括即时合成法、氟一氯甲烷法、乙烷氟化氢法、热解法和电解法。不同方法各有优缺点，从安全性、原材料获取到产品纯度等方面进行对比分析，同时强调了生产过程中需严格控制的反应风险及后续处理的重要性。更多 +
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四氟化碳气体在微电子蚀刻中的应用解析
四氟化碳气体在微电子工业中被广泛应用于蚀刻技术，包括晶圆制造、太阳能电池板制造和线路板制造。纽瑞德是一家专注于高纯四氟化碳气体供应的制造商。需要高纯四氟化碳气体的客户可以联系武汉纽瑞德供应商。更多 +
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四氟化碳——不可或缺的工业气体
四氟化碳是工业中不可或缺的气体，广泛应用于微电子、塑料行业和金属冶炼等领域。本文介绍了四氟化碳的性质、应用及安全存放规范，并推荐了一家可靠稳定的高纯四氟化碳供应商。更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气 体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体， 如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂、爆炸危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作 用。更多 +
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气相色谱法测定高纯四氟化碳中三氟化氮杂质的方法
四氟化碳这种含氟有机化合物作为蚀刻二氧化硅和氧化硅这样的介质材料已成熟运用多年，也是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。其混合气体即四氟化碳和氧气的混合、与氢的混合均在硅系列、薄膜蚀刻领域广泛应用。同时在低温下可作为低温流体用，也在制冷、体绝缘、氟化剂、表面处理剂和激光气体泄露检验剂有一定的应用空间。四氟化碳的广泛应用，其产品质量要求也相应的较为明确、规范。目前行业内较为成熟的分析方法主要检测四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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如何去除四氟化碳？降低温室效应
四氟化碳分子式CF4，常温下为无色气体，四氟化碳只能微溶于水；对热非常稳定，化学性质比四氯化碳更不活泼。分子呈正四面体结构。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。但此外四氟化碳也是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500（二氧化碳的系数是1），所以去除生产过程中不必要的四氟化碳气体非常重要。 不同添加气体对微波电浆更多 +
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四氟化碳气体处理快闪记忆体的应用你知道么
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。今天纽瑞德特气小编月月为大家带来使用四氟化碳电浆处理三氧化钼之电荷捕捉层在快闪记忆体的应用介绍。更多 +
