蚀刻是电子行业重要工艺，蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。

作为新一代环保电子气体，电子级C4F6成为集成电路IC芯片等制造时必不可少的刻蚀气体，其GWP值简直为0，而且能完结纳米级沟槽的加工，成为电子工业领域内一把神奇的“刻刀”，比γ刀还γ！

2015年，浙化院特种气体研发团队提出自主开发新一代含氟电子气体C4F6的提纯技能。

今天纽小编就带大家一起看看C4F6是怎样提纯的呢？

在查阅了很多材料，了解了含氟二烯烃C4F6物化性质后，项目组开始测验C4F6提纯研讨。项目组首先探究了C4F6分子价键与电子云密度分布，计算了C4F6及其有机杂质分子特性，接着收集重要数据，进行软件模拟。终于，在通过对C4F6及其杂质物性深入研讨剖析后，项目组提出了立异的提纯方法。

随着项目使命的不断推动，困难也层出不穷。

其一，在原料杂质的剖析定性问题上，由于新化合物没有标准谱图，技能人员与剖析专家一起琢磨，寻找其中的不同，终于断定首要杂质，为试验展开扫清了妨碍。

其二，C4F6是含氟烯烃，有机杂质与产品结构相近，别离难度大。为了霸占该难题，项目组屡次组织专题讨论会，张建君总经理进行翔实的技能指导，从C4F6自身物化性质到纯化工艺操作，详细剖析并修改相应的试验计划。

其三，针对有机杂质别离难度大的问题，项目组进行了很多的验证试验，调查并反复优化了上百个配方，经常工作到深夜，最终选出了适用的高效吸附剂。

一起，在阅历试验室改造场所受限、设备提纯性能下降等一系列突发状况下，项目组仍不断调整设备参数、完善提纯工艺，完结了既定的C4F6提纯技能开发使命，并进行了电子级C4F6样品生产。C4F6是一个附加值高，商业前景广阔的新品，国内不少同行都对其展开了研讨。