真空涂层技术起步时间不长,国际上在上世纪六十年代才出现将CVD(化学气相沉积)技术应用于硬质合金刀具上。到了上世纪七十年代末,开始出现 PVD(物理气相沉积) 技术,为真空涂层开创了新天地,之后在短短的二、三十年间PVD 涂层技术得到迅猛发展。真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MT-CVD(中温化学气相沉积)等新技术,各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。随着技术的不断发展,对工艺气体如氪气、氩气、氢气等气体的需求不断增大。
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