氯化氢气体是一种腐蚀性的不燃烧气体，与水不反应但易溶于水，空气中常以盐酸烟雾的形式存在，主要用于电池、药品、染料、化肥、玻璃加工、金属清洗、有机合成、腐蚀照像、陶器制造、食品处理、无机氯化物制造等。最近有科学家正在探讨氯化氢气体与氯气在Ge(100)表面的吸附与热分解反应，接下来就由纽瑞德特气小编月月为大家介绍一下。

  我们利用程温脱附质谱(TPD)及X光光电子能谱(XPS)研究氯化氢(HCl)及氯气(Cl2)在锗(100)表面的吸附及热分解反应。于105K，曝露氯化氢于锗表面，最初只出现分解吸附(Ge-H、Ge-Cl)；当曝露量增大，伴随有未分解吸附，依照曝露量多寡，在275 K未分解的氯化氢会分解并持续以分解吸附的型态吸附于表面；当温度升至675K时较弱的Ge-H键先断，经由再结合形成H2、HCl脱附，而残馀分解吸附的Cl则于700K时Ge-Cl键断裂，形成GeCl2脱附。因此氯化氢在锗(100)表面热分解的产物为H2、HCl、GeCl2。

  为了更进一步了解氯在锗(100)表面吸附的情形，将HCl的H置换成Cl，探讨分子组成均为氯在锗表面的吸附情形，并与氯化氢比较。发现两者在锗(100)表面于曝露量大时，均有未分解吸附的吸附态，但结构不同，氯气之分子吸附态于225K开始形成GeCl4脱附。两者相似的是，室温后均为分解吸附情形，故有相似的反应路径，不同的是氯气均为Ge-Cl吸附情形，无H存在，故于700K时Ge-Cl键断裂，形成GeCl2及微量Cl2脱附。因此氯气在锗(100)表面热分解的产物为GeCl4、GeCl2、Cl2。

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