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六氟化硫：新一代光刻胶刻蚀剂
六氟化硫是一种高效的光刻胶刻蚀剂，广泛用于微电子、光电子等领域。其在大气压下具有较强的化学惰性和氧化力，通过与光刻胶中的聚合物链发生氟化反应实现蚀刻。在使用六氟化硫时，需注意操作安全，避免与水蒸气接触，以确保生产过程安全和高效。更多 +
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