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四氯化硅 纯度6N/8N/10N
中文名：四氯化硅更多 +
英文名：silicon tetrachloride
化学式：SiCl4
纯度：99.9999%（6N），99.999999(8N)
99.99999999（10N）
包装：20T标准集装箱罐
275Kg包装罐，100Kg 包装罐
各种纯度，各种规格均有售，咨询客服吧！
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蚀刻技术中特种气体的作用
硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙烷/氧气、三氟化氮等。但由于其各向同性,选择性较差,因此改进后的蚀刻气体通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)气体。反应后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。铝和金属复合层的蚀刻通常采用氯基气体,如CCl4、Cl2、BCl3等。产物主要包括AlCl3等 蚀刻是采用化学和物理方法,有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的目的是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。刻蚀分为湿法蚀更多 +
