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六氟化硫：新一代光刻胶刻蚀剂
六氟化硫是一种高效的光刻胶刻蚀剂，广泛用于微电子、光电子等领域。其在大气压下具有较强的化学惰性和氧化力，通过与光刻胶中的聚合物链发生氟化反应实现蚀刻。在使用六氟化硫时，需注意操作安全，避免与水蒸气接触，以确保生产过程安全和高效。更多 +
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特种气体在蚀刻中的应用
刻蚀分为湿法蚀刻和干法蚀刻。???硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体，包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙烷/氧气、三氟化氮等。???蚀刻气体气体工业名词，蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表…更多 +
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半导体中的第二大材料电子特气是什么？
在芯片制造过程中，不仅需要光刻机、蚀刻机、光刻胶、硅片等核心设备或材料，还需要工业中一种称为电子气的特殊气体。更多 +
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光刻机中你不知道的化学知识
许多化学和化学工程专业的学生经常觉得自己选错了专业。事实上，化学和化学工程的知识非常广泛。请不要沮丧。让我们谈谈光刻术对化学原理的依赖性。光刻技术利用光子能量在晶圆表面“雕刻”光刻胶，将掩模图像传输到晶圆表面。顾名思义，光的使用是光刻技术的核心，因此可能存在误解。光刻是一种物理上占主导地位的工艺，但化学原理在光刻工艺中起着至关重要的作用。 1. 光化学反应 光化学反应是光刻工艺的基本原理。所谓光化学反应是利用光子能量作为活化剂产生自由基，然后通过一系列更多 +
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一周翻了5倍的稀有气体——氖气
氖气（Ne），制造芯片的关键性材料，怎么个关键？ 没有光刻机，做不出芯片。 没有光刻气，光刻机就是个模型。 氖气，占光刻气这种激光气体混合物的96%以上。 氖氩氟等稀有气体经高压受激发后形成等离子体，在这个过程中，由于电子跃迁，会产生固定波长的光线，形成了剔除光刻胶的刀片。 除此之外，还有两个好兄弟，氪气（同样用于光刻制程），氙气（用于半导体刻蚀制程）。 一周内，氪气涨幅约30%，目前主流价格在38000-42000元/方。氙气涨幅约40%，主流价格在42万—45万/方。更多 +
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存储芯片需求增长，2025年电子级稀有气体用量或增加至850ML
在信息时代的飞速发展中，海量数据的处理不仅对于芯片算力提出越来越高的要求，不断累积的数据也需要更大、更快、延时更低的存储介质。电子工业中氪氙气体主要用于3D NAND存储器高深宽比刻蚀工艺，从而实现多层堆叠结构。预计2025年全球电子级稀氪氖氙气体用量将增加至850ML，较2020年增长29%。 激光气体主要用于电子工业中激光退火和光刻气。光刻机是半导体制造的核心设备，光刻定义了晶体管尺寸，光刻产业链协同发展是光刻机突破关键。与之配套的光刻胶、光刻气体、光罩等半导体更多 +
