-
稀有气体的化学奇迹——二氟化氙
二氟化氙是一种稀有气体二氟化氙属于一种稀有化合物，具有强氧化性和还原性。不仅可以作为化学试剂，还被广泛应用于电气绝缘材料、光学材料和半导体材料等领域。同时，二氟化氙也是一种危险物质，与卤素或氧气接触时可引发爆炸。了解二氟化氙的特性和应用将带给人们全新的化学世界观。更多 +
-
二氟化氙在微机电系统芯片上的独特优势和特点
氟化氙（XeF2）可用于Si、Mo和Ge的各向同性蚀刻，是蚀刻牺牲层来“释放”MEMS（MEMS是微机电系统的缩写，中文名为Micro Electro-Mechanical System。MEMS芯片，简而言之，利用半导体技术在硅片上制造电子机械系统，或者更形象地说，创造微米级和纳米级的机械系统，可以将外部物理和化学信号转换为电信号。）更多 +
-
氙气作为世界上最亮的惰性气体有什么用途？
氙气是一种无色气体，不能燃烧或支持燃烧。它吸收X光。气体相对密度为5.887±0.009，液体相对密度为3.52（-100℃），固体相对密度为2.7（-140℃）。临界温度16.6℃，临界压力58.2×L05 Pa，临界密度1.155。它是一种稀有的天然气，具有最高的相对原子质量和密度。在稀有气体中，氙是目前最常见的化合物，如六氟铂氙（XePTFA）、六氟磷酸氙（Xe-PF6）、六氟化磷氙（XeRhF6）、二氟化氙（XeF2）、氧化氙等。更多 +
-
二氟化氙在微机电系统芯片上的独特优势和功能
由于XeF2是干气相蚀刻，因此在通过小孔或狭窄空间蚀刻时不存在与表面张力或气泡相关的问题。XeF2用于蚀刻直径小至25nm的通孔。类似地，XEF2避免了通常与湿蚀刻工艺相关的粘附问题，湿蚀刻工艺可能在释放/干燥后损坏永久器件。更多 +
