蚀刻工艺中的高温室效应潜力气体

蚀刻工艺中的高温室效应潜力气体

高GWP值的蚀刻气体主要包括四氟化碳（CF4）、八氟环丁烷（C8F18）、六氟乙烷（C2F6）

、三氟甲烷（CHF3）等。这些气体在蚀刻过程中表现出较高的温室效应潜值（GWP值），对

环境影响较大。

具体蚀刻气体的GWP值和用途
四氟化碳（CF4）：主要用于蚀刻二氧化硅和氮化硅等介质材料，具有较高的GWP值。
八氟环丁烷（C8F18）：同样用于蚀刻工艺，GWP值较高
六氟乙烷（C2F6）：在蚀刻过程中使用，GWP值较高。
三氟甲烷（CHF3）：用于蚀刻工艺，GWP值较高。
替代低GWP蚀刻气体的选择
为了减少对环境的影响，可以考虑使用六氟丁二烯（C4F6）等低GWP值的蚀刻气体。六氟丁

二烯具有高选择性、高蚀刻进度和高蚀刻效率的特点，并且环境友好，温室效应潜值(GWP值)

仅为290，大气寿命1.9天，是当前唯一兼具优异蚀刻性能和环保性能的含氟电子蚀刻气。