四氟化碳供应
四氟化碳是微电子工业中使用最多的等离子烛刻气体,其高纯气和四氟化碳高纯度与高纯度氧气混合。
1. 可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨膜材料烛刻。对于硅和二氧化硅系统,通过调
整两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅格栅极上的二氧化硅薄膜时非常有用。
2. 还广泛应用于电子设备表面清洁、太阳能电池生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检测剂、
控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面。
3. CF4由于其强大的化学稳定性,也可用于金属冶炼和塑料工业。
4. 四氟化碳具有良好的溶解氧,因此被科学家用于超深度潜水实验,而不是普通的压缩空气。目前,
它已经在老鼠身上取得了成功,在275米到366米的深度内,老鼠仍然可以安全地脱离危险。
储存四氟化碳
1. 气瓶的使用和检验符合国家质量技术监督局《气瓶安全监督条例》的规定。
2. 气瓶不得靠近火源,不得暴露在阳光下,与明火的距离一般不小于10米,气瓶不得撞击。
3. 气瓶的瓶子严禁沾油。
4. 气瓶内的气体不能全部用尽,应留下不小于0.04MPa的剩余压力。
四氟化碳钢瓶采用钢质无缝气瓶包装,产品纯度99.999%。武汉纽瑞德气体公司多年来一直专业供
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