氢化物气体应用

H2Se；实验用，掺杂气，制备硒化物，扩散、离子注入。

H2S；化学分析，金属的精制，各种工业试剂、农药、医药品、萤光体、电发光、半导体光电曝光仪，硫及各种硫化物的制备，有机合成的还原剂、标准气、校正气、等离子干刻。

AsH3，扩散、外延生长，离子注入，化合物半导体用气体，化学气相沉积。

PH3；缩合催化剂，聚合引发剂，磷的有机化合物制备，发生气体，外延生长、扩散、离子注入，蚀刻，化学气相沉积，粮仓的杀虫药。

NH3；氮肥，铵盐，硝酸，尿素，丙烯腈，药品染料，金属表面氮化，制冷剂，半导体用气体，氧化、氮化膜，化学气相沉积，标准气、校正气、在线仪表标准气。

GeH4；化学试剂，制取高纯度锗，化学气相沉积，扩散、非晶硅，外延、离子注入。

Si2H6；太阳能电池，非晶硅膜，外延生长，氧化膜，氮化膜，化学气相沉积。

SiH4；硅的外延生长，多晶硅、氧化硅、氮化硅的原料，太阳能电池，光导纤维，有色玻璃制造，化学气相沉积。

B2H6；半导体制造中的扩散和氧化、外延生长，化学气相沉积。

H2；气体燃料，石油精炼，制造油脂、硬化油等人造奶油，甲醇、氨等合成，焊接和金属的切割，气象观测，玻璃的融化，冶金工业，冷却剂（液氢），半导体制造用平衡气，蚀刻气，标准气，零点气，校正气，热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等。