随着科学技术的发展，对各种原材料的“纯度”要求不断上升。然而，高纯度气体的数

量通常很小，也很昂贵。因此，如何正确、适当地制定原料气体的纯度要求，以及如

何选择高纯度气体已成为一个有争议的问题。妥善处理这个问题将对技术和经济产生

深远的影响。

一般来说，人们通常使用百分比浓度来表示气体的纯度，即所谓的“9”表达式。例如，

99.9%的特定气体浓度表示其含有0.1%的杂质（即1000ppm的杂质含量）。根据一

般概念，显然99.995%的气体比99.99%的气体更纯净，人们似乎更喜欢它。然而，

如果纯度的选择仅限于此，它将对科学研究或生产产生负面影响。如果只考虑这些因

素，显然忽略了高纯度气体的价格和杂质的危害两个主要因素。

很难获得七种“9”或更多的超高纯度气体。除了在实验室提供零件外，在一般工业生产

中也很难提供大量的零件。因此，数字为“9”的纯气体在一般生产中是完全不可接受的，

除非在科学研究中可以有条件地接受。

因此，我们应该从气体中杂质的浓度和杂质对工艺的危害来选择高纯度气体。这是因

为很难将气体中的杂质总量降低到lppm以下，但重要的是将单个有害杂质降低到lppm

以下×10-9或更低。根据目前的工艺水平，硅中的总杂质含量不低于10-8(1ppm)。然而，

磷、硼等有害电活性杂质的单独控制已达到1×10-8～l×10-10。（即o.1o.o1ppb）

因此，国外并不是简单地用几个“9”来表示高纯度气体，而是直接用不同的目的来命名

高纯度气体的程度。如光谱纯值、原子平面、电子平面、半导体平面、太阳能电池平

面、延伸平面、VLSI平面（VLSI平面）、研究平面等。它们只表示材料水平适合特定

的现场站，并不意味着杂质质量必须小于一定的值。正如化学试剂一般分为G一样.R.，

A.R.，和C.P.，这只意味着它们的纯度“优秀”、“可用于分析”和“只能用于普通化学试剂”。

这并不一定意味着材料或试剂的总杂质含量已经降低到一定的数量级。同一水平的不

同材料或试剂中含有的杂质有时可能会改变几个数量级。根据材料的用途选择材料的

纯度，使我们能够选择目标明确的材料，克服盲目性。