COF2；有机合成中间体，氟化剂。

CHF3；蚀刻，冷冻剂，有机合成。

CH2F2；致冷剂。

CH3F；喷雾剂，C-F键的研究。

WF6；氟化剂，钨载体，化学气相沉积。

SF6；电子设备，雷达波导，粒子加速器，变压器，避雷器的气   绝缘体，制冷剂，示踪装置，医疗，半导体制造中的蚀刻、化学气相沉积，标准气，检漏气体，色谱仪的载气。

NF3；火箭推进剂，氟化剂，电子气，等离子干刻，掺杂，激光，光导纤维 。

SiF4；有机硅化合物的合成材料，水泥和人造大理石的硬化剂，氟硅酸及氟化硅的制造，硅的外延生长，等离子蚀刻，太阳能电池，复印机感光筒，非晶硅膜生长，化学气相沉积。

C3F8；高压绝缘，制冷剂，等离子干刻。

C2F6；等离子干刻，冷却，制冷和空调，化学反应中的添氟剂，电气设备的绝缘剂。

CF4；制冷，气体绝缘，干蚀刻气，氟化剂，表面处理剂，激光气体泄漏检验剂。

BF3；有机合成催化剂，火箭的高能燃料，核技术，半导体制造用掺杂气，离子注入气，光导纤维制造，烟熏剂。

HF；制备氟里昂气及其他氟化物，乙醇、乙醛、乙醚（液休HF）的溶剂，聚合、烃化反应的催化剂，玻璃雕刻，杀菌剂，清洗金属，清洗铸件，电镀，滤纸的处理，矿石类的分析，锗、硅的蚀刻剂。

F2；火箭燃料的氧化剂，分离铀同位素，金属的焊接和切割，电镀，玻璃加工，卤化氟的原料，氟化物，含氟塑料，氟橡胶的制造，药物，农药，杀虫剂，冷冻剂，等离子蚀刻。